Результатов найдено: 27
Японская Rapidus вскоре получит свой первый EUV-сканер для выпуска 2-нм чипов
19 ноя 2024
0
0
…EUV-литографии от ASML.
- Rapidus заказала EUV-сканер у ASML, который прибудет в декабре.
- ASML также планирует открыть сервисный центр для обслуживания сканеров.
- Rapidus намерена установить несколько EUV-машин в…
Samsung рассчитывает получить первый литографический сканер High-NA EUV к концу года
16 авг 2024
0
0
…свою первую литографическую систему High-NA EUV к концу 2024-го - началу 2025 года.
- Сканер ASML будет использоваться для исследований и разработки новых технологических процессов для создания микросхем и DRAM.
-…
Японцы разработали недорогой и надежный EUV-сканер. Наступает эпоха дешевых чипов?
11 авг 2024
0
0
- Okinawa Institute of Science and Technology (OIST) разработала недорогой и относительно простой EUV-сканер.
- Новая литографическая машина имеет меньше компонентов, чем сканеры ASML, что делает конструкцию надежнее и дешевле.
- Японские…
В Японии создали упрощенный EUV-сканер, это сделает производство чипов дешевле
7 авг 2024
0
0
- Японские ученые разработали упрощенный EUV-сканер, который дешевле аналогов от ASML.
- Новый EUV-сканер использует всего два зеркала вместо шести, что снижает энергопотребление.
- Оптимизированный оптический путь позволяет направлять более 10…
РАН: российский литографический сканер на 193 нанометра появится через пару лет (Видео)
14 мая 2025
0
0
…над новым сканером на длине волны 193 нанометров для производства микроэлектронных чипов на 90 нанометров и ниже.
- Длина волны 193 нанометра перспективна для создания пятинанометровых микросхем.
- Литографический сканер используется для…
Успешный запуск комплекса HALF открыл Китаю путь к экстремальной УФ-литографии
29 сен 2026
0
0
- Успешный запуск комплекса HALF в Китае открывает путь к экстремальной УФ-литографии.
- HALF - источник света четвертого поколения, предназначенный для исследования материи и живых клеток на субнанометровых масштабах.
- Установка использует линейный…
Чип Huawei на 7 нм превзошел процессор Apple на 3 нм в многоядерных тестах
24 сен 2026
0
0
- Huawei сократила технологическое отставание от Apple в производстве мобильных процессоров с 4 до 3 лет благодаря архитектурным решениям.
- Новый чипсет Kirin 9050 Pro обогнал 3-нм Apple A17 Pro в…
Китайские инженеры нашли способ создавать 3-нм транзисторы без EUV-литографии
21 сен 2026
0
0
- Китайские инженеры разработали технологию создания 3-нм транзисторов без EUV-литографии.
- Подход использует глубокую ультрафиолетовую (DUV) литографию.
- Разработка пока находится на ранней стадии и не готова к коммерческому производству.
- EUV…
Zeiss: Китаю потребуется 15 лет, чтобы догнать Запад в EUV-литографии
4 сен 2026
0
0
- Китаю потребуется около 15 лет для создания собственного оборудования для EUV-литографии, считает Франк Рохмунд из Zeiss Group.
- Темпы китайских разработок трудно оценить количественно, но Zeiss критикует американские санкции за…
Китайский стартап готов к серийному выпуску двумерных проводников без технологии EUV
13 июл 2026
0
0
- Китайский стартап "Юаньцзивэй" разрабатывает технологию производства двумерных полупроводников без использования EUV-литографии.
- Двумерные полупроводники обеспечивают более быстрое переключение состояний и меньшее сопротивление току.
- Переход от лабораторных образцов к промышленному производству…
Японский ученый предложил способ производить чипы в четыре раза дешевле
22 июн 2026
0
0
- Японский ученый Цумору Шинтаке предложил новую оптическую систему для EUV-литографии.
- Система использует линейную геометрию и обеспечивает разрешение 2-3 нм.
- Это может упростить производство полупроводниковых чипов и снизить их…
Самый передовой техпроцесс китайской SMIC достиг плотности уровня 7-нм TSMC
17 июн 2026
0
0
- SMIC достигла плотности 7-нм TSMC на своем техпроцессе N+3.
- Плотность транзисторов достигла 113,4 млн/мм², что выше, чем у TSMC N6.
- Минимальный шаг металлизации составляет 32…
Новая технология ASML увеличивает плотность транзисторов на чипе в 2,9 раза
3 апр 2026
0
0
- ASML представила новую систему для создания структур шириной 8 нанометров, что является рекордом для коммерческих систем.
- Система использует передовую технологию фотолитографии в глубоком ультрафиолете.
- ASML внедрила оптику с более высокой…
Китай поставил цель достичь 80% самообеспечения чипами к 2030 году
30 мар 2026
0
0
- Китай стремится достичь 80% самообеспечения в производстве микросхем к 2030 году.
- Главный барьер - отсутствие доступа к EUV-литографам из-за экспортных ограничений США.
- Китайская индустрия микросхем растет быстрее прогнозов.
- Стратегия…
Новая технология позволит создавать микрочипы в 10 раз меньше современных
26 мар 2026
0
0
- Норвежский стартап Lace Lithography привлек $40 млн инвестиций на разработку технологии производства микрочипов с использованием пучка атомов гелия.
- Такой подход позволяет достичь разрешения около 0,1 нанометра, что в 10…