Результатов найдено: 19
Samsung рассчитывает получить первый литографический сканер High-NA EUV к концу года
16 авг 2024
0
0
…свою первую литографическую систему High-NA EUV к концу 2024-го - началу 2025 года.
- Сканер ASML будет использоваться для исследований и разработки новых технологических процессов для создания микросхем и DRAM.
-…
В Японии создали упрощенный EUV-сканер, это сделает производство чипов дешевле
7 авг 2024
0
0
- Японские ученые разработали упрощенный EUV-сканер, который дешевле аналогов от ASML.
- Новый EUV-сканер использует всего два зеркала вместо шести, что снижает энергопотребление.
- Оптимизированный оптический путь позволяет направлять более 10…
Японская Rapidus вскоре получит свой первый EUV-сканер для выпуска 2-нм чипов
19 ноя 2024
0
0
…EUV-литографии от ASML.
- Rapidus заказала EUV-сканер у ASML, который прибудет в декабре.
- ASML также планирует открыть сервисный центр для обслуживания сканеров.
- Rapidus намерена установить несколько EUV-машин в…
Японцы разработали недорогой и надежный EUV-сканер. Наступает эпоха дешевых чипов?
11 авг 2024
0
0
- Okinawa Institute of Science and Technology (OIST) разработала недорогой и относительно простой EUV-сканер.
- Новая литографическая машина имеет меньше компонентов, чем сканеры ASML, что делает конструкцию надежнее и дешевле.
- Японские…
РАН: российский литографический сканер на 193 нанометра появится через пару лет (Видео)
14 мая 2025
0
0
…над новым сканером на длине волны 193 нанометров для производства микроэлектронных чипов на 90 нанометров и ниже.
- Длина волны 193 нанометра перспективна для создания пятинанометровых микросхем.
- Литографический сканер используется для…
Китай реверс-инжинирингом воспроизвел EUV-литографию ASML
18 дек 2025
0
0
- Китайская лаборатория в Шэньчжэне создала прототип EUV-литографии, технологии, определяющей производство передовых процессоров.
- Прототип успешно генерирует EUV-излучение, но пока не производит чипы.
- ASML, голландская компания, является единственным поставщиком промышленной…
Китай совершил прорыв в фотолитографии в глубоком ультрафиолете
3 мая 2025
0
0
- ASML прекратил продажу передовых моделей фотолитографического оборудования Китаю из-за давления США.
- Китайские исследователи создали собственный источник EUV-излучения на лазерной плазме для производства микрочипов.
- Решение оказалось компактным и не…
В НИУ "МЭИ" создали новый источник излучения в экстремальном ультрафиолете
1 дек 2024
0
0
- Ученые НИУ "МЭИ" создали новый источник излучения в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне длин волн.
- Разработка позволит усовершенствовать технологию литографии микросхем, уменьшить их размеры и увеличить быстродействие.
- Эксперименты с добавлением лития в…
Первая установка Canon для нанопечатной литографии передана на испытания
2 окт 2024
0
0
- Canon отправила первый образец оборудования для нанопечатной литографии американскому исследовательскому консорциуму.
- Это важная веха в коммерциализации технологии, позволяющей производить чипы без дорогостоящих и энергоемких процессов литографии.
- Машина Canon потребляет в…
«МК», Веденеева Наталья: Академик РАН рассказал о новой технологии, которая поможет России стать ведущим производителем микросхем
26 фев 2026
0
0
- США планируют к 2028 году создать новое поколение чипов для микроэлектроники с топологическим размером 7 нм.
- Россия не является лидером в этой области, но продолжает развивать микроэлектронику.
- В СССР было…
Новый шаг к созданию архитектуры промышленного рентгеновского литографа сделан в Институте физики микроструктур РАН
26 фев 2026
0
0
- В Институте физики микроструктур РАН создан уникальный стенд, прототип лазерно-плазменного источника рентгеновского литографа на длину волны 11,2 нм.
- Стенд предназначен для тестирования ключевых элементов и систем будущего литографа…
Китай поставил цель достичь 80% самообеспечения чипами к 2030 году
30 мар 2026
0
0
- Китай стремится достичь 80% самообеспечения в производстве микросхем к 2030 году.
- Главный барьер - отсутствие доступа к EUV-литографам из-за экспортных ограничений США.
- Китайская индустрия микросхем растет быстрее прогнозов.
- Стратегия…
Прорыв ASML позволит на 50% увеличить выпуск чипов на том же оборудовании
24 фев 2026
0
0
- ASML объявила о прорыве в технологии фотолитографии, позволяющем увеличить мощность источника света до 1000 ватт.
- Это позволит повысить производительность оборудования на 50% к 2030 году и обрабатывать до 330 кремниевых…
Китай разработал собственный литограф для производства чипов 65 нм
17 сен 2024
0
0
- Китай разрабатывает новые литографические машины для производства микросхем.
- Машины предназначены для снижения зависимости от зарубежных технологий.
- Новые DUV-машины демонстрируют заметные технологические улучшения.
- Однако они уступают литографам лидеров отрасли, таким…
Новая технология позволит создавать микрочипы в 10 раз меньше современных
26 мар 2026
0
0
- Норвежский стартап Lace Lithography привлек $40 млн инвестиций на разработку технологии производства микрочипов с использованием пучка атомов гелия.
- Такой подход позволяет достичь разрешения около 0,1 нанометра, что в 10…