• Canon отправила первый образец оборудования для нанопечатной литографии американскому исследовательскому консорциуму.
• Это важная веха в коммерциализации технологии, позволяющей производить чипы без дорогостоящих и энергоемких процессов литографии.
• Машина Canon потребляет в 10 раз меньше энергии и позволяет создавать сложные трехмерные схемы с помощью одного штампа.
• Компания планирует ежегодно продавать от 10 до 20 таких установок в течение следующих 3-5 лет.
• Оборудование было поставлено Техасскому институту электроники (TIE), консорциуму, поддерживаемому Техасским университетом в Остине.
• В TIE входят Intel, NXP, Samsung, правительственные агентства и академические институты.
• Традиционное производство полупроводников основано на фотолитографии (DUV или EUV), нанопечатная литография использует другой подход.
• Технология нанопечатной литографии позволяет создавать наноструктуры размером менее 10 нм на больших площадях.
• Преимущества технологии включают снижение производственных затрат и потребления энергии, а также возможность формирования сложных трехмерных схем с помощью одного штампа.

https://youtu.be/UATjUgzGTl4