• Японские ученые разработали упрощенный EUV-сканер, который дешевле аналогов от ASML.
• Новый EUV-сканер использует всего два зеркала вместо шести, что снижает энергопотребление.
• Оптимизированный оптический путь позволяет направлять более 10% начальной энергии на подложку.
• Установка потребляет всего 100 кВт энергии, в 10 раз меньше традиционных систем.
• Новая система может изменить полупроводниковую промышленность благодаря своей экономичности и надежности.
• OIST подал патент на технологию и планирует довести ее до практического применения.
• Мировой рынок EUV-литографии может вырасти с $8,9 млрд в 2024 году до $17,4 млрд к 2030 году.