Китай разработал собственный литограф для производства чипов 65 нм

Китай разрабатывает новые литографические машины для производства микросхем.
Машины предназначены для снижения зависимости от зарубежных технологий.
Новые DUV-машины демонстрируют заметные технологические улучшения.
Однако они уступают литографам лидеров отрасли, таким как ASML и Nikon.
Новые системы еще не готовы к коммерческой эксплуатации.
Китай стремится к технологическому суверенитету в области полупроводников.
ASML необходимо получить экспортную лицензию от правительства Нидерландов для продажи своих передовых DUV-машин.
SMEE рассматривается как основной претендент на создание отечественных литографических систем, но отстает от мировых лидеров.