• ASML объявила о прорыве в технологии фотолитографии, позволяющем увеличить мощность источника света до 1000 ватт.
• Это позволит повысить производительность оборудования на 50% к 2030 году и обрабатывать до 330 кремниевых пластин в час.
• Фотолитографические машины используются для производства передовых микросхем, таких как TSMC и Intel.
• ASML работает над предотвращением поставок оборудования в Китай, а Пекин разрабатывает аналогичное оборудование.
• Два стартапа из США, Substrate и xLight, привлекли сотни миллионов долларов на разработку конкурентноспособных технологий.
• Инновация ASML заключается в увеличении количества капель олова до 100 000 в секунду и использовании двух меньших лазерных импульсов для формирования плазмы.
• Мощный источник света сокращает время экспозиции при производстве чипов и снижает себестоимость устройств.
• ASML видит путь к 1500 ваттам и не видит фундаментальных препятствий для достижения 2000 ватт в будущем.

«Это очень сложно, потому что нужно овладеть многими технологиями, — прокомментировал Хорхе Рокка, профессор Университета Колорадо, подготовивший нескольких ученых ASML. — Достижение одного киловатта — это потрясающий результат».

Более мощный источник света означает сокращение времени экспозиции при производстве чипов, что напрямую снижает себестоимость каждого устройства.