Результатов найдено: 43
Японская Rapidus вскоре получит свой первый EUV-сканер для выпуска 2-нм чипов
19 ноя 2024
0
0
- Rapidus, японская компания, строит завод по производству 2-нм чипов в Хоккайдо.
- Цель - массовый выпуск 2-нм чипов к 2027 году.
- Ключевую роль в проекте играет оборудование для EUV-литографии…
Первая установка Canon для нанопечатной литографии передана на испытания
2 окт 2024
0
0
…EUV), нанопечатная литография использует другой подход.
- Технология нанопечатной литографии позволяет создавать наноструктуры размером менее 10 нм на больших площадях.
- Преимущества технологии включают снижение производственных затрат и потребления энергии, а также…
Разработка ФИАН ускорит и удешевит создание опытных образцов микроструктур
1 окт 2024
0
0
…и ресурсы при создании опытных образцов микроструктур.
- Литограф продемонстрировали на форуме «Микроэлектроника-2024».
- Литография - нанесение или вытравливание рисунка на пластине.
- Установка контактной мини-масочной литографии позволяет быстро переносить рисунок с…
Китай разработал собственный литограф для производства чипов 65 нм
17 сен 2024
0
0
- Китай разрабатывает новые литографические машины для производства микросхем.
- Машины предназначены для снижения зависимости от зарубежных технологий.
- Новые DUV-машины демонстрируют заметные технологические улучшения.
- Однако они уступают литографам лидеров отрасли, таким…
Японцы разработали недорогой и надежный EUV-сканер. Наступает эпоха дешевых чипов?
11 авг 2024
0
0
- Okinawa Institute of Science and Technology (OIST) разработала недорогой и относительно простой EUV-сканер.
- Новая литографическая машина имеет меньше компонентов, чем сканеры ASML, что делает конструкцию надежнее и дешевле.
- Японские…
В Японии создали упрощенный EUV-сканер, это сделает производство чипов дешевле
7 авг 2024
0
0
- Японские ученые разработали упрощенный EUV-сканер, который дешевле аналогов от ASML.
- Новый EUV-сканер использует всего два зеркала вместо шести, что снижает энергопотребление.
- Оптимизированный оптический путь позволяет направлять более 10…
Что из себя представляет российский литограф
29 июл 2024
0
0
- В России создан и тестируется собственный литограф на 350 нм.
Однако, если разобраться, о чём речь, то оказывается, что «новый российский литограф» не очень новый. И не совсем российский.
- Литограф…
Samsung рассчитывает получить первый литографический сканер High-NA EUV к концу года
16 авг 2024
0
0
- Samsung планирует установить свою первую литографическую систему High-NA EUV к концу 2024-го - началу 2025 года.
- Сканер ASML будет использоваться для исследований и разработки новых технологических процессов для создания…
Ученые придумали, как просто и дешево наносить металл лазером почти на любую поверхность
25 мар 2025
0
0
…поверхностей.
- Технология позволяет создавать или ремонтировать печатные платы и микроэлектронику быстрее, дешевле и проще.
- Классическая литография требует дорогостоящего оборудования и специалистов, что ограничивает доступ к ней.
- Новый метод использует лазерную…
Самый передовой техпроцесс китайской SMIC достиг плотности уровня 7-нм TSMC
17 июн 2026
0
0
- SMIC достигла плотности 7-нм TSMC на своем техпроцессе N+3.
- Плотность транзисторов достигла 113,4 млн/мм², что выше, чем у TSMC N6.
- Минимальный шаг металлизации составляет 32…
Китай поставил цель достичь 80% самообеспечения чипами к 2030 году
30 мар 2026
0
0
- Китай стремится достичь 80% самообеспечения в производстве микросхем к 2030 году.
- Главный барьер - отсутствие доступа к EUV-литографам из-за экспортных ограничений США.
- Китайская индустрия микросхем растет быстрее прогнозов.
- Стратегия…
Прорыв ASML позволит на 50% увеличить выпуск чипов на том же оборудовании
24 фев 2026
0
0
- ASML объявила о прорыве в технологии фотолитографии, позволяющем увеличить мощность источника света до 1000 ватт.
- Это позволит повысить производительность оборудования на 50% к 2030 году и обрабатывать до 330 кремниевых…
США усилили санкции, чтобы Huawei на несколько лет застряла на 7-нм техпроцессе
21 ноя 2024
0
0
- Huawei столкнулась с ограничениями в разработке чипов из-за санкций США.
- Новые процессоры Ascend и чипы Mate будут основаны на устаревшей 7-нм архитектуре.
- Запрет на поставки литографического оборудования ASML…