Результатов найдено: 22
Японская Rapidus вскоре получит свой первый EUV-сканер для выпуска 2-нм чипов
19 ноя 2024
0
0
…EUV-литографии от ASML.
- Rapidus заказала EUV-сканер у ASML, который прибудет в декабре.
- ASML также планирует открыть сервисный центр для обслуживания сканеров.
- Rapidus намерена установить несколько EUV-машин в…
Samsung рассчитывает получить первый литографический сканер High-NA EUV к концу года
16 авг 2024
0
0
…свою первую литографическую систему High-NA EUV к концу 2024-го - началу 2025 года.
- Сканер ASML будет использоваться для исследований и разработки новых технологических процессов для создания микросхем и DRAM.
-…
Японцы разработали недорогой и надежный EUV-сканер. Наступает эпоха дешевых чипов?
11 авг 2024
0
0
- Okinawa Institute of Science and Technology (OIST) разработала недорогой и относительно простой EUV-сканер.
- Новая литографическая машина имеет меньше компонентов, чем сканеры ASML, что делает конструкцию надежнее и дешевле.
- Японские…
В Японии создали упрощенный EUV-сканер, это сделает производство чипов дешевле
7 авг 2024
0
0
- Японские ученые разработали упрощенный EUV-сканер, который дешевле аналогов от ASML.
- Новый EUV-сканер использует всего два зеркала вместо шести, что снижает энергопотребление.
- Оптимизированный оптический путь позволяет направлять более 10…
РАН: российский литографический сканер на 193 нанометра появится через пару лет (Видео)
14 мая 2025
0
0
…над новым сканером на длине волны 193 нанометров для производства микроэлектронных чипов на 90 нанометров и ниже.
- Длина волны 193 нанометра перспективна для создания пятинанометровых микросхем.
- Литографический сканер используется для…
Японский ученый предложил способ производить чипы в четыре раза дешевле
22 июн 2026
0
0
- Японский ученый Цумору Шинтаке предложил новую оптическую систему для EUV-литографии.
- Система использует линейную геометрию и обеспечивает разрешение 2-3 нм.
- Это может упростить производство полупроводниковых чипов и снизить их…
Самый передовой техпроцесс китайской SMIC достиг плотности уровня 7-нм TSMC
17 июн 2026
0
0
- SMIC достигла плотности 7-нм TSMC на своем техпроцессе N+3.
- Плотность транзисторов достигла 113,4 млн/мм², что выше, чем у TSMC N6.
- Минимальный шаг металлизации составляет 32…
Новая технология ASML увеличивает плотность транзисторов на чипе в 2,9 раза
3 апр 2026
0
0
- ASML представила новую систему для создания структур шириной 8 нанометров, что является рекордом для коммерческих систем.
- Система использует передовую технологию фотолитографии в глубоком ультрафиолете.
- ASML внедрила оптику с более высокой…
Китай поставил цель достичь 80% самообеспечения чипами к 2030 году
30 мар 2026
0
0
- Китай стремится достичь 80% самообеспечения в производстве микросхем к 2030 году.
- Главный барьер - отсутствие доступа к EUV-литографам из-за экспортных ограничений США.
- Китайская индустрия микросхем растет быстрее прогнозов.
- Стратегия…
Новая технология позволит создавать микрочипы в 10 раз меньше современных
26 мар 2026
0
0
- Норвежский стартап Lace Lithography привлек $40 млн инвестиций на разработку технологии производства микрочипов с использованием пучка атомов гелия.
- Такой подход позволяет достичь разрешения около 0,1 нанометра, что в 10…
IBM и Lam Research совместно разработают чипы менее 1 нм
11 мар 2026
0
0
- IBM и Lam Research совместно разрабатывают чипы менее 1 нм.
- Сотрудничество направлено на разработку процессов и материалов для производства микросхем на узле менее 1 нм.
- Это следующий рубеж после 2…
«МК», Веденеева Наталья: Академик РАН рассказал о новой технологии, которая поможет России стать ведущим производителем микросхем
26 фев 2026
0
0
- США планируют к 2028 году создать новое поколение чипов для микроэлектроники с топологическим размером 7 нм.
- Россия не является лидером в этой области, но продолжает развивать микроэлектронику.
- В СССР было…
Новый шаг к созданию архитектуры промышленного рентгеновского литографа сделан в Институте физики микроструктур РАН
26 фев 2026
0
0
- В Институте физики микроструктур РАН создан уникальный стенд, прототип лазерно-плазменного источника рентгеновского литографа на длину волны 11,2 нм.
- Стенд предназначен для тестирования ключевых элементов и систем будущего литографа…
Прорыв ASML позволит на 50% увеличить выпуск чипов на том же оборудовании
24 фев 2026
0
0
- ASML объявила о прорыве в технологии фотолитографии, позволяющем увеличить мощность источника света до 1000 ватт.
- Это позволит повысить производительность оборудования на 50% к 2030 году и обрабатывать до 330 кремниевых…
Китай реверс-инжинирингом воспроизвел EUV-литографию ASML
18 дек 2025
0
0
- Китайская лаборатория в Шэньчжэне создала прототип EUV-литографии, технологии, определяющей производство передовых процессоров.
- Прототип успешно генерирует EUV-излучение, но пока не производит чипы.
- ASML, голландская компания, является единственным поставщиком промышленной…