Результатов найдено: 27
Zeiss: Китаю потребуется 15 лет, чтобы догнать Запад в EUV-литографии
4 сен 2026
0
0
…для EUV-литографии, считает Франк Рохмунд из Zeiss Group.
- Темпы китайских разработок трудно оценить количественно, но Zeiss критикует американские санкции за стимулирование внутренних разработок в Китае.
- EUV-литография используется для…
Японский ученый предложил способ производить чипы в четыре раза дешевле
22 июн 2026
0
0
…оптическую систему для EUV-литографии.
- Система использует линейную геометрию и обеспечивает разрешение 2-3 нм.
- Это может упростить производство полупроводниковых чипов и снизить их стоимость.
- EUV-литография использует экстремальный ультрафиолетовый…
Первая установка Canon для нанопечатной литографии передана на испытания
2 окт 2024
0
0
…EUV), нанопечатная литография использует другой подход.
- Технология нанопечатной литографии позволяет создавать наноструктуры размером менее 10 нм на больших площадях.
- Преимущества технологии включают снижение производственных затрат и потребления энергии, а также…
Успешный запуск комплекса HALF открыл Китаю путь к экстремальной УФ-литографии
29 сен 2026
0
0
- Успешный запуск комплекса HALF в Китае открывает путь к экстремальной УФ-литографии.
- HALF - источник света четвертого поколения, предназначенный для исследования материи и живых клеток на субнанометровых масштабах.
- Установка использует линейный…
Чип Huawei на 7 нм превзошел процессор Apple на 3 нм в многоядерных тестах
24 сен 2026
0
0
- Huawei сократила технологическое отставание от Apple в производстве мобильных процессоров с 4 до 3 лет благодаря архитектурным решениям.
- Новый чипсет Kirin 9050 Pro обогнал 3-нм Apple A17 Pro в…
Китайские инженеры нашли способ создавать 3-нм транзисторы без EUV-литографии
21 сен 2026
0
0
…Нидерландов.
- КАН сообщила о предварительной интеграции многослойных нанолистовых CMOS-транзисторов с архитектурой GAA.
- GAA считается следующим этапом развития транзисторов после FinFET.
- Китайская полупроводниковая отрасль ищет альтернативы EUV на уровне литографии…
Китайский стартап готов к серийному выпуску двумерных проводников без технологии EUV
13 июл 2026
0
0
- Китайский стартап "Юаньцзивэй" разрабатывает технологию производства двумерных полупроводников без использования EUV-литографии.
- Двумерные полупроводники обеспечивают более быстрое переключение состояний и меньшее сопротивление току.
- Переход от лабораторных образцов к промышленному производству…
Самый передовой техпроцесс китайской SMIC достиг плотности уровня 7-нм TSMC
17 июн 2026
0
0
…32,5 нм, что меньше, чем у Intel 18A.
- SMIC использует технологию SAQP для литографии, что повышает сложность производства.
- Huawei компенсирует ограничения производства за счет дизайна микросхемы, увеличивая количество вычислительных…
Новая технология ASML увеличивает плотность транзисторов на чипе в 2,9 раза
3 апр 2026
0
0
- ASML представила новую систему для создания структур шириной 8 нанометров, что является рекордом для коммерческих систем.
- Система использует передовую технологию фотолитографии в глубоком ультрафиолете.
- ASML внедрила оптику с более высокой…
Китай поставил цель достичь 80% самообеспечения чипами к 2030 году
30 мар 2026
0
0
…достичь 80% самообеспечения в производстве микросхем к 2030 году.
- Главный барьер - отсутствие доступа к EUV-литографам из-за экспортных ограничений США.
- Китайская индустрия микросхем растет быстрее прогнозов.
- Стратегия Китая включает…
Новая технология позволит создавать микрочипы в 10 раз меньше современных
26 мар 2026
0
0
…что в 10 раз меньше, чем у современных систем литографии.
- Стартап выбрал удачный момент для сбора средств, когда правительства и инвесторы готовы вкладывать в полупроводниковые технологии.
- Технология Lace Lithography может…
IBM и Lam Research совместно разработают чипы менее 1 нм
11 мар 2026
0
0
…технологии, обещающий радикально повысить плотность транзисторов.
- Партнерство продолжает сотрудничество в разработке 7-нм техпроцесса и технологии EUV-литографии.
- Lam Research участвовала в разработке первого в мире 2-нм чипа, представленного…
«МК», Веденеева Наталья: Академик РАН рассказал о новой технологии, которая поможет России стать ведущим производителем микросхем
26 фев 2026
0
0
…ликвидации заводов и оборудования.
- Сейчас Россия фокусируется на создании оборудования для производства микросхем и создании собственных литографов.
- Создание собственных микросхем для космоса требует разработки новых технологий и оборудования.
- Россия стремится…
Новый шаг к созданию архитектуры промышленного рентгеновского литографа сделан в Институте физики микроструктур РАН
26 фев 2026
0
0
…уникальный стенд, прототип лазерно-плазменного источника рентгеновского литографа на длину волны 11,2 нм.
- Стенд предназначен для тестирования ключевых элементов и систем будущего литографа и включает сверхзвуковое сопло, твердотельный лазер…
Прорыв ASML позволит на 50% увеличить выпуск чипов на том же оборудовании
24 фев 2026
0
0
- ASML объявила о прорыве в технологии фотолитографии, позволяющем увеличить мощность источника света до 1000 ватт.
- Это позволит повысить производительность оборудования на 50% к 2030 году и обрабатывать до 330 кремниевых…