• Разработана технология получения плазмы для ускорения создания новых литографов.
• Плазма была получена благодаря единственной в мире установке, создающей непрерывный терагерцевый лазерный разряд.
• Российские физики смогли получить плотную и горячую плазму, которая станет источником экстремального ультрафиолетового излучения.
• Плазма будет использоваться для создания микроэлектроники будущего.
• Метод фотолитографии широко используется в производстве микроэлектроники.
• Для решения задачи нужны источники экстремального ультрафиолетового излучения, которые станут основными элементами литографов нового поколения.
• Планируется увеличить мощность плазмы в два и четыре раза за счет увеличения мощности Новосибирского лазера на свободных электронах.
• В качестве химического элемента для источника излучения будет использоваться ксенон.
• Отработанную технологию планируется реализовать в более компактных установках на основе генераторов электромагнитных колебаний СВЧ-диапазона.