- Разработана технология получения плазмы для ускорения создания новых литографов.
- Плазма была получена благодаря единственной в мире установке, создающей непрерывный терагерцевый лазерный разряд.
- Российские физики смогли получить плотную и горячую плазму, которая станет источником экстремального ультрафиолетового излучения.
- Плазма будет использоваться для создания микроэлектроники будущего.
- Метод фотолитографии широко используется в производстве микроэлектроники.
- Для решения задачи нужны источники экстремального ультрафиолетового излучения, которые станут основными элементами литографов нового поколения.
- Планируется увеличить мощность плазмы в два и четыре раза за счет увеличения мощности Новосибирского лазера на свободных электронах.
- В качестве химического элемента для источника излучения будет использоваться ксенон.
- Отработанную технологию планируется реализовать в более компактных установках на основе генераторов электромагнитных колебаний СВЧ-диапазона.
Разработана технология получения плазмы для ускорения создания новых литографов
19 июн 2025
Краткий пересказ
от нейросети YandexGPT
Источник:
nauka.tass.ru
Обложка: Изображение из статьи. © Антон Новодережкин/ТАСС