• Японский ученый Цумору Шинтаке предложил новую оптическую систему для EUV-литографии.
• Система использует линейную геометрию и обеспечивает разрешение 2-3 нм.
• Это может упростить производство полупроводниковых чипов и снизить их стоимость.
• EUV-литография использует экстремальный ультрафиолетовый свет с короткой длиной волны.
• Новая система устраняет проблемы оптических искажений и размытия, связанные с трехмерной структурой зеркальной EUV-маски.
• Шинтаке предложил использовать двухступенчатый проектор с точно рассчитанным профилем и расстоянием между зеркалами.
• Новая конструкция позволит повысить плотность памяти и эффективность работы микросхем.
• Разработка может снизить стоимость чипов и решить проблему энергопотребления центров обработки данных.

Моделирование показывает, что система способна обеспечить разрешение 2–3 нм — уровень, недостижимый для большинства современных коммерческих установок. Более простая и тонкая конструкция позволит повысить плотность памяти и улучшить эффективность работы логических микросхем. «Мы сможем создавать машины, стоимость которых будет вчетверо ниже, чем у существующих на рынке», — заявил Шинтаке.