Результатов найдено: 22
Японский ученый предложил способ производить чипы в четыре раза дешевле
22 июн 2026
0
0
…оптическую систему для EUV-литографии.
- Система использует линейную геометрию и обеспечивает разрешение 2-3 нм.
- Это может упростить производство полупроводниковых чипов и снизить их стоимость.
- EUV-литография использует экстремальный ультрафиолетовый…
Первая установка Canon для нанопечатной литографии передана на испытания
2 окт 2024
0
0
…EUV), нанопечатная литография использует другой подход.
- Технология нанопечатной литографии позволяет создавать наноструктуры размером менее 10 нм на больших площадях.
- Преимущества технологии включают снижение производственных затрат и потребления энергии, а также…
Самый передовой техпроцесс китайской SMIC достиг плотности уровня 7-нм TSMC
17 июн 2026
0
0
…32,5 нм, что меньше, чем у Intel 18A.
- SMIC использует технологию SAQP для литографии, что повышает сложность производства.
- Huawei компенсирует ограничения производства за счет дизайна микросхемы, увеличивая количество вычислительных…
Новая технология ASML увеличивает плотность транзисторов на чипе в 2,9 раза
3 апр 2026
0
0
- ASML представила новую систему для создания структур шириной 8 нанометров, что является рекордом для коммерческих систем.
- Система использует передовую технологию фотолитографии в глубоком ультрафиолете.
- ASML внедрила оптику с более высокой…
Китай поставил цель достичь 80% самообеспечения чипами к 2030 году
30 мар 2026
0
0
…достичь 80% самообеспечения в производстве микросхем к 2030 году.
- Главный барьер - отсутствие доступа к EUV-литографам из-за экспортных ограничений США.
- Китайская индустрия микросхем растет быстрее прогнозов.
- Стратегия Китая включает…
Новая технология позволит создавать микрочипы в 10 раз меньше современных
26 мар 2026
0
0
…что в 10 раз меньше, чем у современных систем литографии.
- Стартап выбрал удачный момент для сбора средств, когда правительства и инвесторы готовы вкладывать в полупроводниковые технологии.
- Технология Lace Lithography может…
IBM и Lam Research совместно разработают чипы менее 1 нм
11 мар 2026
0
0
…технологии, обещающий радикально повысить плотность транзисторов.
- Партнерство продолжает сотрудничество в разработке 7-нм техпроцесса и технологии EUV-литографии.
- Lam Research участвовала в разработке первого в мире 2-нм чипа, представленного…
«МК», Веденеева Наталья: Академик РАН рассказал о новой технологии, которая поможет России стать ведущим производителем микросхем
26 фев 2026
0
0
…ликвидации заводов и оборудования.
- Сейчас Россия фокусируется на создании оборудования для производства микросхем и создании собственных литографов.
- Создание собственных микросхем для космоса требует разработки новых технологий и оборудования.
- Россия стремится…
Новый шаг к созданию архитектуры промышленного рентгеновского литографа сделан в Институте физики микроструктур РАН
26 фев 2026
0
0
…уникальный стенд, прототип лазерно-плазменного источника рентгеновского литографа на длину волны 11,2 нм.
- Стенд предназначен для тестирования ключевых элементов и систем будущего литографа и включает сверхзвуковое сопло, твердотельный лазер…
Прорыв ASML позволит на 50% увеличить выпуск чипов на том же оборудовании
24 фев 2026
0
0
- ASML объявила о прорыве в технологии фотолитографии, позволяющем увеличить мощность источника света до 1000 ватт.
- Это позволит повысить производительность оборудования на 50% к 2030 году и обрабатывать до 330 кремниевых…
Китай реверс-инжинирингом воспроизвел EUV-литографию ASML
18 дек 2025
0
0
…получали фальшивые удостоверения личности.
- Рынок отреагировал нервно на новость о создании прототипа EUV-литографии в Китае.
- Китай может получить первые работающие чипы по передовой литографической технологии через 5-6 лет.
Разработана технология получения плазмы для ускорения создания новых литографов
19 июн 2025
0
0
- Разработана технология получения плазмы для ускорения создания новых литографов.
- Плазма была получена благодаря единственной в мире установке, создающей непрерывный терагерцевый лазерный разряд.
- Российские физики смогли получить плотную и горячую плазму…
РАН: российский литографический сканер на 193 нанометра появится через пару лет (Видео)
14 мая 2025
0
0
- Российский литографический сканер на 193 нанометра может появиться через два года.
- В прошлом году был получен сканер на длине волны 350 нанометров совместно с Белоруссией.
- Сейчас испытывается сканер на длине…
Китай совершил прорыв в фотолитографии в глубоком ультрафиолете
3 мая 2025
0
0
…Решение оказалось компактным и не уступает международным аналогам.
- Китай находится в шаге от создания собственных литографических машин с источником света LPP-EUV.
- Разработка проводилась группой ученых из Шанхайского института оптики…
Китайцы создали прорывной твердотельный лазер для производства микрочипов
24 мар 2025
0
0
…YAG).
- Тестовая система имеет ширину линии менее 880 МГц, сопоставимую с показателями современных коммерческих литографических установок.
- Пока выходная мощность опытной системы ниже, чем у производственных систем на основе эксимерного газа…