Результатов найдено: 7
Первая установка Canon для нанопечатной литографии передана на испытания
2 окт 2024
0
0
…EUV), нанопечатная литография использует другой подход.
- Технология нанопечатной литографии позволяет создавать наноструктуры размером менее 10 нм на больших площадях.
- Преимущества технологии включают снижение производственных затрат и потребления энергии, а также…
В Японии создали упрощенный EUV-сканер, это сделает производство чипов дешевле
7 авг 2024
0
0
- Японские ученые разработали упрощенный EUV-сканер, который дешевле аналогов от ASML.
- Новый EUV-сканер использует всего два зеркала вместо шести, что снижает энергопотребление.
- Оптимизированный оптический путь позволяет направлять более 10…
Разработка ФИАН ускорит и удешевит создание опытных образцов микроструктур
1 окт 2024
0
0
…и ресурсы при создании опытных образцов микроструктур.
- Литограф продемонстрировали на форуме «Микроэлектроника-2024».
- Литография - нанесение или вытравливание рисунка на пластине.
- Установка контактной мини-масочной литографии позволяет быстро переносить рисунок с…
Китай разработал собственный литограф для производства чипов 65 нм
17 сен 2024
0
0
- Китай разрабатывает новые литографические машины для производства микросхем.
- Машины предназначены для снижения зависимости от зарубежных технологий.
- Новые DUV-машины демонстрируют заметные технологические улучшения.
- Однако они уступают литографам лидеров отрасли, таким…
Японцы разработали недорогой и надежный EUV-сканер. Наступает эпоха дешевых чипов?
11 авг 2024
0
0
- Okinawa Institute of Science and Technology (OIST) разработала недорогой и относительно простой EUV-сканер.
- Новая литографическая машина имеет меньше компонентов, чем сканеры ASML, что делает конструкцию надежнее и дешевле.
- Японские…
Что из себя представляет российский литограф
29 июл 2024
0
0
- В России создан и тестируется собственный литограф на 350 нм.
Однако, если разобраться, о чём речь, то оказывается, что «новый российский литограф» не очень новый. И не совсем российский.
- Литограф…
Samsung рассчитывает получить первый литографический сканер High-NA EUV к концу года
16 авг 2024
0
0
- Samsung планирует установить свою первую литографическую систему High-NA EUV к концу 2024-го - началу 2025 года.
- Сканер ASML будет использоваться для исследований и разработки новых технологических процессов для создания…