Результатов найдено: 7

Первая установка Canon для нанопечатной литографии передана на испытания

2 окт 2024
0
0
…EUV), нанопечатная литография использует другой подход. - Технология нанопечатной литографии позволяет создавать наноструктуры размером менее 10 нм на больших площадях. - Преимущества технологии включают снижение производственных затрат и потребления энергии, а также…

В Японии создали упрощенный EUV-сканер, это сделает производство чипов дешевле

7 авг 2024
0
0
- Японские ученые разработали упрощенный EUV-сканер, который дешевле аналогов от ASML. - Новый EUV-сканер использует всего два зеркала вместо шести, что снижает энергопотребление. - Оптимизированный оптический путь позволяет направлять более 10…

Разработка ФИАН ускорит и удешевит создание опытных образцов микроструктур

1 окт 2024
0
0
…и ресурсы при создании опытных образцов микроструктур. - Литограф продемонстрировали на форуме «Микроэлектроника-2024». - Литография - нанесение или вытравливание рисунка на пластине. - Установка контактной мини-масочной литографии позволяет быстро переносить рисунок с…

Китай разработал собственный литограф для производства чипов 65 нм

17 сен 2024
0
0
- Китай разрабатывает новые литографические машины для производства микросхем. - Машины предназначены для снижения зависимости от зарубежных технологий. - Новые DUV-машины демонстрируют заметные технологические улучшения. - Однако они уступают литографам лидеров отрасли, таким…

Японцы разработали недорогой и надежный EUV-сканер. Наступает эпоха дешевых чипов?

11 авг 2024
0
0
- Okinawa Institute of Science and Technology (OIST) разработала недорогой и относительно простой EUV-сканер. - Новая литографическая машина имеет меньше компонентов, чем сканеры ASML, что делает конструкцию надежнее и дешевле. - Японские…

Что из себя представляет российский литограф

29 июл 2024
0
0
- В России создан и тестируется собственный литограф на 350 нм. Однако, если разобраться, о чём речь, то оказывается, что «новый российский литограф» не очень новый. И не совсем российский. - Литограф…

Samsung рассчитывает получить первый литографический сканер High-NA EUV к концу года

16 авг 2024
0
0
- Samsung планирует установить свою первую литографическую систему High-NA EUV к концу 2024-го - началу 2025 года. - Сканер ASML будет использоваться для исследований и разработки новых технологических процессов для создания…