Новая технология многофотонной литографии показала рекордное разрешение

Китайские исследователи разработали оптимизированный подход к 3D-печати с высоким разрешением на микролинзах, фотонных кристаллах и метаматериалах.
Технология многофотонной литографии используется для выборочной полимеризации материала с наноразмерной точностью.
Ученые из Чжэцзянского университета решили проблему нежелательной полимеризации, используя уникальную оптическую установку и фоторезист из мономера PETA и себацината.
Оптическая установка состоит из фемтосекундного и пикосекундного лазеров для предотвращения нежелательной полимеризации и формирования желаемого рисунка с высоким разрешением.
Новый подход показал рекордное пространственное разрешение 100 нм при скорости печати 100 мкм/с и не опускается ниже 120 нм при увеличении скорости до 1000 мкм/с.
Исследователи работают над улучшением скорости печати и системы фоторезиста для стабильности и практичности метода многофотонной литографии.