Результатов найдено: 57
Китайский стартап собрал прототип источника излучения для EUV-литографии
19 окт 2026
0
0
Прототип источника EUV-излучения от Langdao Silex
• Китайский стартап Langdao Silex представил прототип источника экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения на Китайской международной промышленной выставке в Шанхае.
• Установка на 90% состоит из…
Китай накопил сотни DUV-литографов ASML для производства 7-нм чипов
6 окт 2026
0
0
…ASML.
- С 2012 года китайские производители микросхем получили около 343 таких сканеров.
- Накопленные Китаем мощности позволяют производить современные процессоры даже при ограничениях на поставки EUV-систем.
- DUV-литография менее совершенна…
Успешный запуск комплекса HALF открыл Китаю путь к экстремальной УФ-литографии
29 сен 2026
0
0
- Успешный запуск комплекса HALF в Китае открывает путь к экстремальной УФ-литографии.
- HALF - источник света четвертого поколения, предназначенный для исследования материи и живых клеток на субнанометровых масштабах.
- Установка использует линейный…
Потребители в Европе перестали покупать оборудование ASML для производства чипов
29 сен 2026
0
0
- ASML - крупнейшая компания-производитель литографического оборудования для производства чипов.
- В 2026 году компания практически ничего не заработала на европейском рынке.
- Доля Европы в выручке компании составила 0%.
- Причина: европейские компании…
Поставки первого серийного российского литографа начнутся в декабре 2026
14 сен 2026
0
0
- Первый серийный российский фотолитограф для производства микросхем по технологическим нормам 350 нм будет поставлен компании «Маппер» в декабре 2026 года.
- Установка «Прогресс СТП-350» стоимостью 392 млн рублей без НДС…
Физики нашли способ учитывать анизотропию кристалла при создании волноводов
10 сен 2026
0
0
- Ученые из МФТИ разработали подход для учета анизотропии кристалла при создании фотонных элементов.
- Подход основан на фрикционной сканирующей зондовой литографии и позволяет изготавливать наноразмерные волноводы из GaInS3.
- GaInS3 обладает высоким…
Китай начал серийное производство DUV-литографов для выпуска 7-нм чипов
28 июл 2026
0
0
- Китай начал серийное производство DUV-литографов для выпуска 7-нм чипов.
- Иммерсионная DUV-литография позволяет выпускать чипы по нормам 28 нм за одну экспозицию.
- За 2026-2027 годы Китай планируют…
Россия создала собственный литограф, он позволяет выпускать 150-нанометровые чипы
21 июл 2026
0
0
…месяцев.
- Безмасковая литография позволяет формировать рисунок микросхем на кремниевых и других подложках без масок.
- Такой подход востребован при разработке прототипов и выпуске небольших партий микросхем.
- Электронно-лучевая литография уступает фотолитографии…
Nvidia потеряла лидерство в Китае из-за санкций США и местного ИИ
29 июн 2026
0
0
- Nvidia потеряла лидерство в Китае из-за санкций США и местного ИИ.
- Продажи ИИ-ускорителей Nvidia в Китае заблокированы успехами местных производителей.
- Доля Nvidia на китайском рынке ИИ сократилась с…
Японский ученый предложил способ производить чипы в четыре раза дешевле
22 июн 2026
0
0
…3 нм.
- Это может упростить производство полупроводниковых чипов и снизить их стоимость.
- EUV-литография использует экстремальный ультрафиолетовый свет с короткой длиной волны.
- Новая система устраняет проблемы оптических искажений и размытия…
Процессоры толщиной в три атома: открыт новый способ создания чипов нового поколения
17 июн 2026
0
0
- Физики из Принстонской лаборатории физики плазмы разработали технологию бесконтактного химического травления для создания ультратонких транзисторов из двумерных материалов.
- Новый метод основан на концепции атомно-слоевого травления с применением защитного покрытия…
Новая технология ASML увеличивает плотность транзисторов на чипе в 2,9 раза
3 апр 2026
0
0
- ASML представила новую систему для создания структур шириной 8 нанометров, что является рекордом для коммерческих систем.
- Система использует передовую технологию фотолитографии в глубоком ультрафиолете.
- ASML внедрила оптику с более высокой…
Новая технология позволит создавать микрочипы в 10 раз меньше современных
26 мар 2026
0
0
- Норвежский стартап Lace Lithography привлек $40 млн инвестиций на разработку технологии производства микрочипов с использованием пучка атомов гелия.
- Такой подход позволяет достичь разрешения около 0,1 нанометра, что в 10…
IBM и Lam Research совместно разработают чипы менее 1 нм
11 мар 2026
0
0
- IBM и Lam Research совместно разрабатывают чипы менее 1 нм.
- Сотрудничество направлено на разработку процессов и материалов для производства микросхем на узле менее 1 нм.
- Это следующий рубеж после 2…
«МК», Веденеева Наталья: Академик РАН рассказал о новой технологии, которая поможет России стать ведущим производителем микросхем
26 фев 2026
0
0
- США планируют к 2028 году создать новое поколение чипов для микроэлектроники с топологическим размером 7 нм.
- Россия не является лидером в этой области, но продолжает развивать микроэлектронику.
- В СССР было…