Прототип источника EUV-излучения от Langdao Silex

• Китайский стартап Langdao Silex представил прототип источника экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения на Китайской международной промышленной выставке в Шанхае. • Установка на 90% состоит из компонентов местного производства. • Создание прототипа стало важным этапом в стремлении Китая добиться независимости в производстве оборудования для выпуска передовых микросхем.

Технические характеристики прототипа

• Устройство мощностью более 15 Вт генерирует плазму с помощью лазера. • Система оснащена лазером накачки мощностью 1000 Вт с рабочей частотой от 1 кГц до 20 кГц и коэффициентом преобразования энергии более 2%. • Выходная мощность излучения превышает 15 Вт, а яркость достигает 100 Вт/(мм²·ср). • Источник характеризуется значением этандю 1 × 10⁻³ мм²·ср и генерирует плазму диаметром 60 мкм. • Система способна непрерывно работать более 100 часов при стабильности плазмы на уровне 3% и стабильности выходной мощности EUV-излучения на уровне 5%.

Перспективы и вызовы

• Для серийного производства чипов выходной мощности системы пока недостаточно. • Необходимо повысить выходную мощность и долгосрочную стабильность работы, а также наладить цепочки поставок. • Достижение демонстрирует стремление Китая добиться независимости в полупроводниковой промышленности.