Успешный запуск комплекса HALF открыл Китаю путь к экстремальной УФ-литографии

Успешный запуск комплекса HALF в Китае открывает путь к экстремальной УФ-литографии.
HALF - источник света четвертого поколения, предназначенный для исследования материи и живых клеток на субнанометровых масштабах.
Установка использует линейный ускоритель длиной 192 метра для разгона электронов до энергии 2,2 миллиарда электронвольт.
Ожидается, что рентгеновские лучи HALF будут в 100 раз ярче и более когерентны, чем у предшественников.
Строительство комплекса HALF началось в 2023 году, планируется завершить к 2028 году.
Комплекс HALF будет использоваться для исследований в области высокотемпературной сверхпроводимости, новых энергетических батарей, материалов и наук о жизни.
Первая партия экспериментальных станций будет включать платформу для экстремальной ультрафиолетовой литографии.
HALF откроет Китаю доступ к технологии экстремальной УФ-литографии, которая является ключевой для производства передовых полупроводников.