Китай накопил сотни DUV-литографов ASML для производства 7-нм чипов

Китай приобрел сотни установок для иммерсионной DUV-литографии ASML.
С 2012 года китайские производители микросхем получили около 343 таких сканеров.
Накопленные Китаем мощности позволяют производить современные процессоры даже при ограничениях на поставки EUV-систем.
DUV-литография менее совершенна, чем EUV, но может использоваться для производства передовых микросхем.
Неизвестно, сколько установок используется для производства передовых чипов.
Китай активно закупал оборудование для производства чипов из-за экспортных ограничений.
В 2024 году Китай потратил на DUV-оборудование более $13 млрд.
ASML поставила по всему миру 129 и 131 систему иммерсионной ArFi-литографии в 2024 и 2025 годах соответственно.
CTS предлагает запретить поставки иммерсионных DUV-систем в Китай и ограничить обслуживание и замену компонентов оборудования.