• Samsung получила литографический сканер EXE: 5000 для работы с технологией High-NA EUV.
• Оборудование использует усовершенствованную технологию экстремальной ультрафиолетовой литографии.
• Цена сканера составляет около $500 млн.
• Эксклюзивным поставщиком является нидерландская компания ASML.
• Новое оборудование может дать Samsung преимущество в гонке за производство чипов менее 2 нанометров.
• Samsung занимает второе место на рынке контрактного производства микросхем с долей 8,1%.
• Intel и другие крупные производители микросхем активно закупают установки High-NA EUV.
• Intel уже использует первые две установки для массового производства чипов по технологии 18A.
• TSMC начнет массовое производство с применением High-NA EUV не раньше 2028 года.