В России создали первый отечественный литограф

Зеленоградский нанотехнологический центр разработал фотолитограф для производства микросхем с разрешением 350 нм.
Установка прошла государственные испытания и использует твердотельный лазер вместо ртутной лампы.
Оборудование может найти применение в автомобильной и военной сферах, несмотря на устаревание 350-нм техпроцесса.
ЗНТЦ также работает над фотолитографом для 130-нм техпроцессов, который планируется завершить к 2026 году.
Новый фотолитограф превосходит предыдущие модели по площади рабочего поля и максимальному диаметру обрабатываемых пластин.
Твердотельные лазеры могут использоваться для экспонирования при производстве чипов с литографическими нормами от 250 нм и выше.
Новый фотолитограф может быть полезен в отдельных отраслях, таких как производство микросхем для автомобилей и систем управления питанием, а также в военной сфере.
Основная цель новой машины - стать основой для более мощных версий.
ЗНТЦ разрабатывает модель для 130-нм техпроцессов, завершение которой ожидается в 2026 году.