Разработка способа глубокой очистки нанопорошка
• Ученые ННГУ запатентовали способ глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния для микроэлектроники. • Разработан подход к комплексному управлению свойствами наночастиц.
Характеристики полученных частиц
• Частицы имеют заданный размер и форму, высокую однородность, стабильность и низкое содержание примесей. • Эти характеристики определяют возможность использования частиц в производстве микросхем.
Применение изобретения
• Изобретение предназначено для химико-механической полировки полупроводниковых пластин. • Подходит для процессов, требующих высокочистых абразивных наноматериалов.
Технологическая линия и регламент
• Разработаны технологическая линия и регламент получения продукта. • Создана устойчивая суспензия, направленная на апробацию индустриальному партнеру.
Необходимость отечественных аналогов
• В условиях ограничений поставок сформировалась потребность в отечественных аналогах зарубежных продуктов. • Размер, форма и однородность наночастиц влияют на качество обработки пластин и надежность электронных устройств.
Значение для российской микроэлектроники
• Разработка отечественных материалов с контролируемыми характеристиками важна для развития российской микроэлектроники. • Это снижает зависимость от зарубежных поставщиков.
Цель и достижения
• Создание отечественной компонентной базы для микроэлектроники - ключевая задача страны. • Университетская наука отвечает на вызовы времени и запросы индустрии. • Успешное масштабирование процесса и переход к испытаниям с индустриальным партнером подтверждают правильность направления.