• Томский государственный университет разработал отечественную технологию выпуска и очистки бромистого водорода и тетракис(диметиламино)титана.
• Производство этих соединений позволит закрыть основные потребности российских предприятий в компонентах для микроэлектроники.
• Бромистый водород используется для очистки поверхности кремниевых пластин, а TDMAT - для химического осаждения пленок нитрида титана из газовой фазы.
• Первые партии продуктов прошли промышленные испытания на отечественных предприятиях.
• Спрос на TDMAT оказался выше, чем на начальной стадии разработки технологии, но ИХТЦ готов произвести столько продукта, сколько потребуется российской промышленности.
• Внедрение технологий выпуска бромистого водорода и TDMAT будет способствовать появлению качественной российской электроники и её импортонезависимости.

«Бромистый водород применяется для очистки поверхности кремниевых пластин, служащих основной для интегральных микросхем. Ранее бромистый водород поставлялся в Россию зарубежными компаниями, но после введения санкций поставки были прекращены. За 2023-2024 годы химики ТГУ разработали отечественную технологию выпуска и очистки с использованием только российских реагентов, что обеспечивает технологическую независимость производства», - приводятся в сообщении слова руководителя проекта, директора Инжинирингового центра высокочистых веществ и материалов микроэлектроники ТГУ, профессора ХФ ТГУ Виктора Сачкова.