• Китайские ученые разработали метод сокращения дефектов при производстве чипов на 99%.
• Применение криоэлектронной томографии позволило детально изучить поведение фоторезиста на молекулярном уровне.
• Литография - ключевой процесс изготовления полупроводников, где фоторезист используется для создания схем на кремниевой пластине.
• На этапе проявки фоторезист может создавать критические дефекты, снижая выход годных микросхем.
• Новый метод может позволить Китаю конкурировать с ведущими производителями фоторезистов из Японии, США и Южной Кореи.

Решение продемонстрировало стабильность и повторяемость, что важно для массового производства. При этом технология применима не только на этапе литографии, но и в процессах травления, влажной очистки и других критически важных операциях.