• Китайские инженеры разработали технологию создания 3-нм транзисторов без EUV-литографии.
• Подход использует глубокую ультрафиолетовую (DUV) литографию.
• Разработка пока находится на ранней стадии и не готова к коммерческому производству.
• EUV и DUV - два типа литографии для формирования микроскопических элементов на кремниевых пластинах.
• ASML - единственный производитель промышленных EUV-установок.
• Китай не может закупать EUV-системы из-за экспортных ограничений США и Нидерландов.
• КАН сообщила о предварительной интеграции многослойных нанолистовых CMOS-транзисторов с архитектурой GAA.
• GAA считается следующим этапом развития транзисторов после FinFET.
• Китайская полупроводниковая отрасль ищет альтернативы EUV на уровне литографии, архитектуры транзисторов и проектирования микросхем.