Изготовлены первые микрочипы за пределами экстремального ультрафиолетового диапазона

Исследователи из Университета Джонса Хопкинса разработали новую технологию для создания сверхкомпактных микрочипов.
Технология использует металлоорганические материалы, работающие с мощным излучением за пределами экстремального ультрафиолетового диапазона.
Микрочипы создаются с помощью литографии с использованием радиационно-чувствительного материала, называемого резистом.
Металлоорганические резисты на основе имидазола созданы для обработки миниатюрных деталей.
Методика химического жидкостного осаждения (CLD) позволяет наносить металлоорганические покрытия с нанометровой точностью и контролировать толщину слоя.
Команда тестирует комбинации материалов для излучения B-EUV, которое станет стандартом отрасли в ближайшее десятилетие.
Новая технология открывает возможности для создания сверхкомпактных чипов для различных устройств, включая мобильные телефоны, бытовую технику, автомобили и самолеты.