• Россия создала собственный литограф для выпуска 150-нм чипов без использования масок.
• Установка создана в Зеленоградском нанотехнологическом центре (ЗНТЦ).
• Два опытных образца проходят комплексные испытания, которые продлятся около 4 месяцев.
• Безмасковая литография позволяет формировать рисунок микросхем на кремниевых и других подложках без масок.
• Такой подход востребован при разработке прототипов и выпуске небольших партий микросхем.
• Электронно-лучевая литография уступает фотолитографии по скорости, но важна для научных исследований и прототипирования.
• ЗНТЦ также разрабатывает фотолитограф с разрешением 350 нм и оборудование с нормами 130 нм.