• Китай начал серийное производство DUV-литографов для выпуска 7-нм чипов.
• Иммерсионная DUV-литография позволяет выпускать чипы по нормам 28 нм за одну экспозицию.
• За 2026-2027 годы Китай планируют построить не менее 25 собственных литографов.
• Это станет важным шагом к снижению зависимости от ASML и ослаблению экспортных ограничений со стороны США.
• Массовое производство DUV-сканеров с иммерсионной литографией запустила государственная компания из Шанхая.
• Первые установки в 2026 году должны получить SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies.
• В этом году планируется выпустить около пяти машин, а в 2027 году - примерно 20.
• Иммерсионная DUV-литография остается самой передовой технологией после запрета на поставки EUV-сканеров ASML.
• Рынок быстро отреагировал на новость, акции ASML более чем на 7% и это может оказаться сильнейшим падением с 8 июня.

Инвесторы опасаются, что локализация производства литографических установок в Китае со временем сократит позиции западных поставщиков на одном из крупнейших мировых рынков.